• 低加速電壓觀察時(shí)分辨率更高，可更好地觀察樣品 表面的細(xì)微形狀和更有效地降低樣品的損壞
• 全新設(shè)計(jì)的電子光學(xué)系統(tǒng)和信號(hào)處理技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速掃描和低噪音的觀察
• 和以前的常規(guī)掃描電子顯微鏡相比＊2自動(dòng)功能縮短＊3了大約11秒
• 具有在低真空時(shí)可以非常好地觀察樣品 表面的細(xì)微形狀的“UVD(超高靈敏度可變壓力探測(cè)器)”＊4
• 具有實(shí)現(xiàn)了實(shí)時(shí)立體成像的“實(shí)時(shí)立體觀察功能”＊4

*2：

和日立SEM S-3400N相比

*3：

根據(jù)觀察條件的不同，時(shí)間會(huì)有變動(dòng)

*4：

自選

項(xiàng)目		描述
二次電子分辨率		3.0 nm(加速電壓=30 kV，WD=5 mm高真空模式) 7.0 nm(加速電壓=3 kV，WD=5 mm高真空模式)
背散射電子分辨率		4.0 nm(加速電壓=30 kV，WD=5 mm低真空模式) 10.0 nm(加速電壓=5 kV，WD=5 mm高真空模式)
放大倍率		5 - 300,000倍(底片倍率＊5） 7 - 800,000倍(顯示器顯示倍率＊6）
加速電壓		0.3～30kV
可變壓力范圍		6～650Pa
大樣品尺寸		直徑 200 mm
樣品臺(tái)	X	0～100mm
	Y	0～50mm
	Z	5～65mm
	R	360°
	T	-20～90°
	可觀察區(qū)域	直徑 130 mm(旋轉(zhuǎn)并用)
	大樣品高度	80mm（WD＝10mm）
	馬達(dá)臺(tái)	5軸標(biāo)配
電子光學(xué)系統(tǒng)	電子槍	預(yù)對(duì)中的鎢燈絲
	物鏡光闌	4孔可動(dòng)光闌
	探檢測(cè)器	埃弗哈特 索恩利 二次電子探測(cè)器 高靈敏度半導(dǎo)體背散射電子檢測(cè)器
	EDX分析 WD	10 mm(取出角35°)
圖像顯示	操作系統(tǒng)	Windows®7(有更改，恕不另行通知)
	圖像顯示模式	全屏模式(1,280 × 960 像素) 小屏模式(800 × 600 像素) 雙圖像顯示(800 × 600 像素) 四屏幕顯示(640 × 480像素) 信號(hào)混合模式
排氣系統(tǒng)	操作	全自動(dòng)排氣
	渦輪分子泵	261升/秒 × 1
	機(jī)械泵	135 L/min.(162 L/min.，60Hz) × 1

*5：

以127 mm × 95 mm(圖像尺寸4" × 5")的顯示尺寸規(guī)定倍率

*6：

以345 mm × 259 mm(像素1,280 × 960)的顯示尺寸規(guī)定倍率